材料分析和成像

二次离子质谱仪 (SIMs)、电子探针微量分析 (ePMA)、低能电子诱发 X 射线发射光谱测定法 (LeXes) 和原子探针断层摄影术 (ATP) 的领导者。创新材料表征系统包括能量色散分光法 (EDS) 和用于微量分析的波长色散分光法 (WDS)、电子背散射衍射分析 (EBSD)、通过 TEM 电子衍射进行的晶体学分析,以及微 X 射线荧光分析 (XRF)。一系列广泛适用于各类终端市场的原子光谱仪,利用光发射、能量色散 X 射线荧光 (EDXRF)、ICP 或 ICP 质谱测量技术对固体和液体的元素组成进行分析。用于国防、汽车、工程、科学、医学研究、制造包装、体育和娱乐、电视和电影制作数码摄影等各行各业的高速数字成像系统。

子类别:成像、过程和质量控制、研究和实验室